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V系列石墨真空爐

簡要描述：真空爐是用石墨/鉬/鎢/感應(yīng)作發(fā)熱元件的真空爐，主要應(yīng)用于陶瓷、硬質(zhì)合金、復(fù)合材料等在真空或保護(hù)氣氛中高溫?zé)Y(jié)或退火等熱處理，也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫?zé)崽幚砘蛸F金屬材料的除氣處理。

更新日期：2025-11-05
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技術(shù)數(shù)據(jù)
規(guī)格
應(yīng)用
主要成分
下載

設(shè)備簡介
該真空爐是用石墨/鉬/鎢/感應(yīng)作發(fā)熱元件的真空爐，主要應(yīng)用于陶瓷、硬質(zhì)合金、復(fù)合材料等在真空或保護(hù)氣氛中高溫?zé)Y(jié)或退火等熱處理，也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫?zé)崽幚砘蛸F金屬材料的除氣處理。

產(chǎn)品特點(diǎn)

采用臥式、側(cè)開門結(jié)構(gòu)：裝卸物料，操作方便；

升溫快：升溫速率10℃/分鐘(≤1600℃)，升溫速率5℃/分鐘(＞1600℃)；

設(shè)計優(yōu)化好：加熱室熱場經(jīng)熱態(tài)模擬計算，具有非常高的溫度均勻性、配置的加熱元件及隔熱層采用模塊化優(yōu)化設(shè)計；

采用多溫區(qū)控制：預(yù)留多個測溫孔，以便高溫監(jiān)測使用；

溫度均勻性好：平均溫度均勻性為±5℃（5點(diǎn)測溫，恒溫區(qū)1000℃保溫1h后檢測）；

冷卻速度快：可選配2bar-10bar氣體壓力下快速冷卻系統(tǒng)，保證工件熱壓完畢快速冷卻，高效運(yùn)行；

穩(wěn)定性好：設(shè)備長時間運(yùn)行穩(wěn)定，故障率非常低；

安全性能好：采用HMI+PLC+PID壓力傳感控制，安全可靠；

可拓展性強(qiáng)：可燒結(jié)、退火、脫脂、除氣等。

產(chǎn)品規(guī)格及技術(shù)指標(biāo)

編號	有效區(qū)尺寸（mm）	極限真空度(Pa)	工作溫度(℃)	適用工藝
V4GR20	400x400x600	5	2000/2400	燒結(jié)/退火/脫脂


V6GR20	600x600x900	5	2000/2400	燒結(jié)/退火/脫脂


V8GR20	800x800x1200	5	2000/2400	燒結(jié)/退火/脫脂


V10GR20	1000x1000x1000	5	2000/2400	燒結(jié)/退火/脫脂

一、定義

真空爐是一種在爐腔這一特定空間內(nèi)，利用真空系統(tǒng)（包括真空泵、真空測量裝置和真空閥門等組件）將爐腔內(nèi)部分物質(zhì)排出，以降低爐腔內(nèi)壓強(qiáng)，使其小于一個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，從而實(shí)現(xiàn)真空狀態(tài)的工業(yè)爐。

二、工作原理

真空爐的工作原理涉及一系列復(fù)雜的步驟，主要包括：

啟動真空系統(tǒng)，包括機(jī)械泵、維持泵等，對爐腔進(jìn)行抽真空，降低其內(nèi)部壓強(qiáng)。

當(dāng)真空度達(dá)到特定要求時，加熱系統(tǒng)開始工作，對爐腔內(nèi)的材料進(jìn)行加熱處理。

在真空環(huán)境中，材料可以避免與空氣中的氧氣等發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)無氧化、無脫碳的加熱過程。

加熱完成后，可以進(jìn)行快速冷卻或其他后續(xù)處理。

三、應(yīng)用領(lǐng)域

真空爐在多個領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用，包括：

電子行業(yè)：在集成電路的制造過程中，真空爐用于高溫退火和低壓化學(xué)氣相沉積，以提高芯片的質(zhì)量和可靠性。

航天航空業(yè)：用于制作高溫合金材料和先進(jìn)陶瓷材料，這些材料經(jīng)真空熱處理后具有更高的強(qiáng)度和抗腐蝕性。

材料科學(xué)領(lǐng)域：在金屬材料的制備過程中，真空熱處理可以消除材料中的微觀缺陷和內(nèi)部應(yīng)力，提高材料的整體性能。

四、優(yōu)點(diǎn)